首页 > 资讯 > 中国科大光量子芯片领域取得重要进展

中国科大光量子芯片领域取得重要进展

导语:创头条6月15日消息,中国科大郭光灿院士团队任希锋研究组与中山大学董建文、浙江大学戴道锌等研究组合作,基于光子能谷霍尔效应,在能谷相关拓扑绝缘体芯片结构中实现了量子干涉,相关成果以“编辑推荐文章”的形式6月11日发表在国际知名学术期刊《物理评论...

创头条6月15日消息,中国科大郭光灿院士团队任希锋研究组与中山大学董建文、浙江大学戴道锌等研究组合作,基于光子能谷霍尔效应,在能谷相关拓扑绝缘体芯片结构中实现了量子干涉,相关成果以“编辑推荐文章”的形式6月11日发表在国际知名学术期刊《物理评论快报》上。

审稿人表示,该成果为拓扑光子学特别是能谷光子拓扑绝缘体结构应用于更加深入的量子信息处理过程提供了一个新的思路,可能对高保真片上量子信息处理起到重要作用。

据悉,中科院量子信息重点实验室任希锋教授、中山大学董建文教授为论文共同通讯作者,中科院量子信息重点实验室博士生陈阳和中山大学博士后何辛涛为论文共同第一作者,浙江大学戴道锌研究组参与工作。该工作得到了科技部、国家基金委、中国科学院、安徽省以及中国科学技术大学的资助。

来源:创头条 查看原文
点赞0
收藏7
水草
水草
用户评论
游客
发布
©2021 版权所有 ICP许可证号 京ICP备15013664号-1
登录 注册
登录
完成注册

快捷登录

请激活账号

为了能正常使用网站的评论、编辑功能及以后陆续为用户提供的其他产品,请激活账号。

您的注册邮箱: 修改

重新发送激活邮件 进入我的邮箱

如果您没有收到激活邮件,请注意检查垃圾箱。